oprava existující anotace, přidání nové anotace
|
Název: |
| Advances in CMP polishing technologies for the manufacture of electronic devices / edited by Toshiro Doi, Ioan D. Marinescu, Syuhei Kurokawa |
Autor: |
| Doi, Toshiro K., |
Rok vydání: |
| 2012 |
Identifikátory: |
| 9781437778595 |
|
© 2013-2026 Obálkyknih.cz - Jihočeská vědecká knihovna v Českých Budějovicích, admin@obalkyknih.cz