Obálkyknih.cz - Jihočeská vědecká knihovna v Českých Budějovicích

oprava existující anotace, přidání nové anotace

Název:		Low Temperature Plasma Physics: Fundamental Aspects and Applications
Autor:
Rok vydání:		2001
Identifikátory:		9783527288878

Upravte stávající anotaci nebo vložte anotaci novou.
Anotace:	Low-temperature plasma physics is a very active area of research located on the boundaries between physics, chemistry and materials science. Recent technological developments, e.g. in plasma etching or plasma deposition, have led to a revived interest in plasma physics and technology. <br> This volume describes in detail fundamentals and applications of low-temperature plasma physics including newest achievements. The authors of this volume are top scientists from the USA and Europe who present most recent successes in our understanding of how plasmas behave and put a strong focus on the links between theory and experiment or technological process.<br> <br>
	Souhlasím s využitím anotace pro potřeby projektu obálkyknih.cz. Obsah neporušuje autorská práva.(povinné)